お知らせ

2019年度

光とレーザーの最新技術・製品・情報が集結する「OPIE'19」に出展


 「当社(社長:大田 勝幸)は、2019年4月24日(水)~26日(金)の3日間、パシフィコ横浜で開催される一般社団法人 OPI協議会統括主催の「OPIE'19」(https://www.opie.jp/)にブースを出展いたします。


 当社の微細加工技術であるナノインプリントは、基材の表面にナノメートルサイズの微細構造を形成する技術です。微細構造の形状に応じて、様々な光学的機能を発現させることができます。当社ではガラス基材上への無機材料によるインプリント(ガラスインプリント)により、高耐熱位相差板の他、高耐熱拡散板、高耐熱ビーム整形素子など、様々な無機光学素子の開発、製造を行っています。今回、製品紹介のため、出展します。

<出展概要>

1.日時 2019年4月24日(水)~26日(金)10:00-17:00
2.会場 パシフィコ 横浜展示ホール アネックスホール レーザーEXPO No.B-25
3.出展製品

高耐熱位相差板

ナノサイズの周期凹凸構造により位相差を発現

  • レーザー光源に使用可能な高耐熱、高耐光性
  • 位相差領域のパターニングや1チップ内で複数光学軸角度の設定が可能
  • 光入射角依存性が小さい

高耐熱拡散板

基材表面に転写した無機微細構造により光の拡散性を制御

  • 200℃以上の高耐熱性と高耐光性
  • 拡散角のコントロールが可能
  • ホットスポットがなく、理想的なガウシアン拡散特性

高耐熱ビーム整形素子

基材表面に転写した無機微細構造により出射パターンを制御

  • 200℃以上の高耐熱性と高耐光性
  • ご要望の出射パターンに応じて、微細構造設計、素子製作が可能
  • 矩形、円形だけでなく、ロゴや標識のような複雑な出射パターンも実現可能

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